건식 식각기술의 동향분석
- 저자
- 박성호, 김진섭, 강봉구 / 신소자재료연구실
- 권호
- 4권 2호 (통권 12)
- 논문구분
- 일반 논문
- 페이지
- 76-0
- 발행일자
- 1989.06.15
- DOI
- 10.22648/ETRI.1989.J.040205
- 초록
- 본 연구에서는 초고집적 반도체소자의 제작을 위한 건식 식각장비의 기술동향 분석과 식각공정에 대한 요구조건 추출 및 실제의 공정예를 검토함으로써 submicron급의 초미세형상을 가공하는데 이방성과 저손상의 중요한 특성을 갖는 ECR 플라즈마, 특히 저온의 식각방식이 차세대의 건식 식각장치의 주류가 될 것임을 예측하였다.
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