ECR 플라즈마를 이용한 반도체 공정기술
- 저자
- 박성호, 강봉구 / 신소자재료연구실
- 권호
- 3권 2호 (통권 8)
- 논문구분
- 일반 논문
- 페이지
- 37-0
- 발행일자
- 1988.06.15
- DOI
- 10.22648/ETRI.1988.J.030204
- 초록
- ECR 플라즈마는 활성도가 크고 지향성이 강한 고에너지 빔으로서, 고속.고정밀.고 선택비의 식각공정과, 저온.저손상.고 평탄화의 증착공정, 3차원 구조에도 불순물을 원하는 깊이만큼 도우핑할 수 있는 불순물 주입공정 등에 폭넓게 응용될 수 있다.
5778 Downloaded
2807 Viewed
Share
- Sign Up
- 전자통신동향분석 이메일 전자저널 구독을 원하시는 경우 정확한 이메일 주소를 입력하시기 바랍니다.